特許

J-GLOBAL ID：200903013613366288

日焼け止め化粧料

発明者： 吉田 正志 ,  海塩 健一 ,  植原 計一
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-080884
公開番号（公開出願番号）：特開平7-267842
出願日： 1994年03月28日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：

【要約】【目的】耐水性および耐油性に優れ、非常に高い紫外線防止効果を有する日焼け止め化粧料を提供する。【構成】一般式化1【化1】で表わされる単位を少なくとも1個もつシロキサン類であって、前記シロキサン類中に存在しうる他の単位が、一般式化2【化2】O(4-m)/2 SiR3 m(前記一般式化1においてR1 は炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基又はトリメチルシロキシ基、R2 は少なくとも2個の炭素原子を有する二価の炭化水素基(複素原子Oを有するものを含む)、Xはアルコキシ基、nは0〜3の整数、aは2または3の整数、R3 は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基又はトリメチルシロキシ基、mは0〜3の整数を表す。)で表わされることを特徴とするシリコーン系桂皮酸誘導体と、上記以外の紫外線吸収剤及び/または紫外線散乱剤とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料。

請求項（抜粋）：

一般式化1【化1】で表わされる単位を少なくとも1個もつシロキサン類であって、前記シロキサン類中に存在しうる他の単位が、一般式化2【化2】O(4-m)/2 SiR3 m(前記一般式化1においてR1 は炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基又はトリメチルシロキシ基、R2 は少なくとも2個の炭素原子を有する二価の炭化水素基(複素原子Oを有するものを含む)、Xはアルコキシ基、nは0〜3の整数、aは2または3の整数、R3 は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基又はトリメチルシロキシ基、mは0〜3の整数を表す。)で表わされることを特徴とするシリコーン系桂皮酸誘導体と、上記以外の紫外線吸収剤及び/または紫外線散乱剤とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料。

IPC (4件)：

A61K 7/42 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/44 ,  C07F 7/08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-117613
  
• 紫外線防御化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-101112   出願人：花王株式会社
• 日焼け止め化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-210068   出願人：株式会社資生堂
• 特開平4-139122