特許

J-GLOBAL ID：200903013615117315

基板収納容器及び基板処理方法

発明者： 山田 徹朗 ,  渡辺 謙二
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-198428
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064666
出願日： 1994年08月23日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】 脱ガスが少なく, 微粒子汚染, ガス状物質汚染, 自然酸化膜の成長等の影響を除去した収納容器と,それを用いた基板処理方法を提供する。【構成】 1)基板を収納する密閉容器であって,高純度乾燥気体供給系と超高純度水蒸気供給装置とを備えている基板収納容器,2)基板を密閉容器に収納し該密閉容器内に超高純度水蒸気を満たして無水フッ酸処理装置に搬送する過程と,次いで該基板を大気中に開放しないで無水フッ酸処理を行う過程を有する基板処理方法,3)無水フッ酸処理洗浄装置を大気と隔離された隔離容器内に入れて基板の処理を行い,該基板を大気と隔離された状態で密閉容器に移し替えて高純度乾燥気体を充填して搬送し,大気と隔離して成膜装置に移し替える基板処理方法。

請求項（抜粋）：

基板を収納する密閉容器であって,乾燥気体供給系と水蒸気供給系とを備えていることを特徴とする基板収納容器。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  B08B 3/10 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/304 341 ,  B65D 85/86