特許
J-GLOBAL ID：200903013616291572
レーザビーム均一照射光学系
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-091454
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287704
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：
【要約】【課題】 レーザビームを分割した分割ビームを重ね合わせて照射面上に均一な強度分布を備えた照射ビームを、ビーム間の干渉を軽減して形成する光学系を提供する。【解決手段】 レーザ光源からのレーザビームをビーム断面において空間的に分割ビームに分割するレーザビーム分割手段として導波路又は分割用のシリンドリカルレンズアレイと、分割ビームを照射面上で重ね合せて照射する重ね合せ用のレンズと、から成り、上記の導波路が、上記の分割ビーム幅をレーザビーム断面における断面方向の空間的可干渉距離の1/2倍以上として、重ね合せ照射手段が、各分割レーザビームを照射面上で互いにずらして転写して照射ビームを形成する。レーザビーム分割手段と重ね合せ用のレンズとの間に、遅延板を挿入し、互いに隣接する隣接分割ビームの一方を他方に対して時間的可干渉距離よりも長く遅延させ、分割ビームの照射面上での干渉を軽減する。
請求項（抜粋）：
レーザ光源からのレーザビームをビーム断面において空間的に分割ビームに分割するレーザビーム分割手段と、分割ビームを照射面上で重ね合せて照射する重ね合せ照射手段と、から成るレーザビーム均一照射光学系であって、上記のレーザビーム分割手段が、上記の分割ビーム幅をレーザビーム断面における断面方向の空間的可干渉距離の1/2倍以上であり、重ね合せ照射手段が、各分割レーザビームを照射面上で互いにずらして転写して照射ビームを形成することを特徴とするレーザビーム均一照射光学系。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 27/00 V
, G02B 27/00 E
