特許

J-GLOBAL ID：200903013633442940

荷電粒子線描画用データ作成方法並びに描画用パターンデータ作成プログラムを記録した記録媒体

発明者： 田村 貴央
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 弘男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-222094
公開番号（公開出願番号）：特開平11-067634
出願日： 1997年08月19日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：

【要約】【課題】 新たに不良箇所を生成することなく、CADデータをパターンデータに変換する際に発生する演算エラーを迅速に修正することである。【解決手段】 CADパターンから描画装置用パターンデータへの変換時に発生した演算エラーに対し、これを補償するパターンデータを層間演算を用いて発生させる。これにより、新たに不良箇所を生成することなく、CADデータをパターンデータに変換する際に発生する演算エラーを迅速に修正でき、半導体デバイスの断線、ショートを防止し、歩留まり低下を防止する。

請求項（抜粋）：

CADデータを変換することにより、荷電粒子を用いて微細パターンを形成する荷電粒子線描画装置に用いる描画用パターンデータを作成する荷電粒子線描画用データ作成方法にあって、前記CADデータと前記描画用パターンデータとの間に相違があるかどうかを層間演算を用いて検証する検証過程と、この検証手段により前記CADデータと描画装置用パターンデータに相違があると検証された場合、前記相違を補償する描画パターンデータを層間演算を用いて発生する補償過程とを有することを特徴とする荷電粒子線描画用データ作成方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G06F 17/50 ,  H01L 21/82

FI (5件)：

H01L 21/30 541 Q ,  G03F 1/16 B ,  G03F 1/16 E ,  G06F 15/60 658 M ,  H01L 21/82 C