特許
J-GLOBAL ID:200903013635845244
マスクデータ自動処理システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高田 守
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-116843
公開番号(公開出願番号):特開平6-332150
出願日: 1993年05月19日
公開日(公表日): 1994年12月02日
要約:
【要約】【目的】 マスクデータ作成及び検査処理の実行を自動化することにより、処理効率向上、作業ミス撲滅を図る。【構成】 オペレータは、マスク作成仕様の選択及び処理手順を入力装置1で入力する。コンピュータ3は、マスク作成仕様及び処理手順に従ってマスク作成仕様の情報をデータファイル2から読み取り、処理を実行する。処理の進行状態は、状態情報を記述した状態情報ファイル6に出力される。コンピュータ3は、状態情報ファイル6を読み込んで実行状況報告レポートを表示装置7に表示させる。特に複雑な判断を要するような事態であれば、オペレータに対処を促す。単純再実行で済むものについては、コンピュータ3が自動的に判断して該当する処理を再起動させる。【効果】 一連の処理をまとめて処理手順に設定でき、標準仕様の一部が異なる場合や標準外の場合等でも、一度作成した処理条件データを各処理工程で共用できる。
請求項(抜粋):
レイアウト設計の完了した回路パターンからマスクデータを作成するために、前記回路パターンに係るデータを自動的に処理するマスクデータ自動処理システムにおいて、処理すべきデータを付与するデータ付与手段と、前記データ付与手段によって与えられた前記データを処理する複数の処理手段と、半導体のウエハプロセス条件により個別に定まる、前記マスクを作成するためのマスク作成仕様、及びマスクデータ作成やその検査のために前記複数の処理手段の動作を規定する処理手順を与える入力手段と、前記マスク作成仕様及び前記処理手順に基づいて、前記複数の処理手段を制御する制御手段と、を備える、マスクデータ自動処理システム。
IPC (2件):
G03F 1/08
, G06F 15/60 370
引用特許:
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