投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-342316
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196388
出願日： 1992年12月22日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【目的】レチクル上の縦横周期パターンとともに斜め周期パターンの焦点深度も改善した変形光源を持つ投影露光装置を得る。【構成】 4つの開口によって4光源を作る照明系において、コヒーレンスファクターσ値が0.8〜0.64の範囲を輪帯状面光源とし、σ値が0.64以下の所で十字状遮光部を設けて4つの面光源を作る。

請求項（抜粋）：

投影すべきパターンが形成されたマスクを照明する照明系と、前記パターンの像を感光基板上に投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記照明系は、前記マスクのパターン面に対して光学的にフーリエ変換の関係となる面を内部に有する照明光学系と、前記フーリエ変換面上、もしくはその近傍面上で光軸を中心とした所定半径内に照明光を分布させる光分布設定手段とを含み;該光分布設定手段は前記光軸を中心とした所定幅の輪帯状の領域内に前記照明光を分布させるとともに、該輪帯状の領域の内側の中心部を除く離散的な複数部分の領域に前記照明光を分布させることを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03B 27/54 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 S , H01L 21/30 311 L

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