特許

J-GLOBAL ID：200903013645634527

ウエハ厚さむら測定装置

発明者： 石森 英男 ,  奥村 寛
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-209237
公開番号（公開出願番号）：特開2001-033215
出願日： 1999年07月23日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】ウエハの表裏の変位量を高精度に測定することが可能なウエハ厚さむら測定装置を提供することにある。【解決手段】直線走査の方向に沿ってウエハの表裏の相対的な変位量を測定して、例えば、第1および第2の光学測定装置に対する増減方向(測定値の正負の方向)をそれぞれに同一方向に選択し、算出手段によりその変位量の和によりウエハの厚さについての変位量を走査位置に応じて算出し、直線走査による測定ステージの位置の変化あるいはそのときの温度の変化により発生する第1および第2の光学測定装置のベース台上のずれ量を第3の光学測定装置により走査位置対応に測定して、この測定値で走査位置対応に補正するものである。

請求項（抜粋）：

ウエハを載置したテーブルと前記ウエハの表裏面にレーザ光を照射する光学測定装置とを有し、前記ウエハと前記測定光学系のいずれかを相対的に直線移動させて前記レーザ光により前記ウエハを走査してウエハ厚さむらを測定するウエハ厚さむら測定装置において、前記光学測定装置として設けられた前記ウエハの表面の変位を測定する第1の光学測定装置および前記ウエハの裏面の変位を測定する第2の光学測定装置と、前記直線移動による走査位置に応じて前記第1および前記第2の光学測定装置間の距離についての変位を測定する第3の光学測定装置と、前記第1の光学測定装置で測定された変位量と前記第2の光学測定装置で測定された変位量とに基づいて前記ウエハの厚さについての変位量を前記直線移動による前記ウエハ上の走査位置に応じて算出する算出手段と、この算出手段による算出値をその走査位置に対応する前記第3の光学測定装置で測定された前記距離についての変位により補正する補正手段とを備えることを特徴とするウエハ厚さむら測定装置。

IPC (2件)：

G01B 11/06 ,  G01B 9/02

FI (2件)：

G01B 11/06 G ,  G01B 9/02

Fターム (46件)：

2F064AA04 ,  2F064AA09 ,  2F064BB07 ,  2F064CC01 ,  2F064CC04 ,  2F064DD02 ,  2F064EE01 ,  2F064FF01 ,  2F064FF06 ,  2F064GG12 ,  2F064GG16 ,  2F064GG22 ,  2F064GG23 ,  2F064GG38 ,  2F064HH01 ,  2F064HH05 ,  2F064JJ05 ,  2F065AA02 ,  2F065AA30 ,  2F065AA47 ,  2F065BB03 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065EE00 ,  2F065EE02 ,  2F065FF49 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065GG23 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ15 ,  2F065LL12 ,  2F065LL17 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065MM04 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ42 ,  2F065SS13