特許
J-GLOBAL ID：200903013651159490
排気ガス浄化触媒形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉信 興
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-322651
公開番号（公開出願番号）：特開平5-154393
出願日： 1991年12月06日
公開日（公表日）： 1993年06月22日
要約：
【要約】【目的】 真空成膜法による製造する触媒コンバ-タの浄化効率の向上および真空成膜法により形成される触媒層の耐剥離性の向上。【構成】 耐熱性金属帯の表面を真空ア-ク放電処理して粗面化した後、真空成膜法によりガス浄化触媒層を形成する。【効果】 体積に対して広面積の触媒層を有するので排気ガス浄化効率が高い。触媒層の付着が強固であり耐久性が高い。実質上一つ又は連続の真空チャンバ内で実質上連続した工程で、効率良くしかも錆を生ずることなく、触媒層の形成を行ない得る
請求項（抜粋）：
耐熱性金属帯の表面を真空ア-ク放電処理して粗面化した後、真空成膜法によりガス浄化触媒層を形成することを特徴とする、排気ガス浄化触媒形成方法。
IPC (4件)：
B01J 37/02 301
, B01D 53/36
, C23C 14/56
, C23C 16/06
