特許

J-GLOBAL ID：200903013652809421

プリント回路のための多層、光画像形成性、水性処理可能なエレメント

発明者： ケニス・アイザク・ラザール ,  ゲーリー・クラーク・ブリネー ,  トマス・ケビン・フオーマン
出願人/特許権者： イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-169209
公開番号（公開出願番号）：特開平7-199458
出願日： 1994年07月21日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 プリント回路のための多層、光画像形成性、水性処理可能なエレメントの提供。【構成】 このエレメントは、順に(a)支持フィルム;(b)(i) 1種又はそれ以上の熔融塗布条件において感熱性の成分;(ii) カルボン酸含有コポリマーバインダー;(iii) 少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含有するモノマー成分;及び(iv) 光開始剤又は光開始剤系よりなる光重合性レジスト被覆組成物の第一層;並びに(c)(i) カルボン酸含有コポリマーバインダー;(ii) 少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含有するモノマー成分;及び(iii) 光開始剤又は光開始剤系よりなる光重合性レジスト被覆組成物の第二層よりなり、0.85-1重量%の水性炭酸ナトリウム中30°Cにおいて2分以内に化学作用放射線に暴露する第一及び第二層の部分が実質的に除去されず、そしてこの2層の非暴露部分が完全除去されるものである。

請求項（抜粋）：

順に(a)支持フィルム;(b)(i) 1種又はそれ以上の熔融塗布条件において感熱性の成分;(ii) カルボン酸含有コポリマーバインダー;(iii) 少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含有するモノマー成分;及び(iv) 光開始剤又は光開始剤系よりなるが、感熱性成分のために熔融塗布法によっては形成されることができない光重合性レジスト被覆組成物の第一層;並びに(c)(i) カルボン酸含有コポリマーバインダー;(ii) 少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含有するモノマー成分;及び(iii) 光開始剤又は光開始剤系よりなる光重合性レジスト被覆組成物の第二層よりなり、ただし前記第二層は熔融塗布法によって形成され、その中で第一及び第二層中現像に十分なカルボキシル基があり、0.85-1重量%の水性炭酸ナトリウム中30°Cにおいて2分以内に化学作用放射線に暴露する第一及び第二層の部分が実質的に除去されず、そしてこの2層の非暴露部分が完全除去される水性処理可能な、光画像形成性レジストエレメント。

IPC (5件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/038 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18