特許

J-GLOBAL ID：200903013666570600

エチレンオキサイドガスの除去方法及びその装置

発明者： 西野 敦
出願人/特許権者： 株式会社丸善クリエイト
代理人 (1件)： 菊池 武胤 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-013633
公開番号（公開出願番号）：特開2001-205032
出願日： 2000年01月24日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：

【要約】【課題】 空気中のエチレンオキサイドガスの除去処理を行って、医療施設等で従事する人々の健康及び快適化を図ることができるエチレンオキサイドガスの除去方法及びエチレンオキサイドガスの除去装置を提供する。【解決手段】 空気中のエチレンオキサイドガスを水槽1内の水と混合させ、エチレンオキサイドガスをグリセリンに化学変化させて、前記水槽1内の水に溶解したグリセリンを排出する。

請求項（抜粋）：

空気中のエチレンオキサイドガスを水槽内の水と混合させ、エチレンオキサイドガスをグリセリンに化学変化させて、前記水槽内の水に溶解したグリセリンを排出することを特徴とするエチレンオキサイドガスの除去方法。

IPC (2件)：

B01D 53/18 ,  B01D 53/14

FI (2件)：

B01D 53/18 A ,  B01D 53/14 C

Fターム (9件)：

4D020AA08 ,  4D020AA10 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB02 ,  4D020CC07 ,  4D020CD02 ,  4D020DA02 ,  4D020DB04