特許

J-GLOBAL ID：200903013674372949

荷電粒子ビーム装置およびその運転方法

発明者： 平本 和夫 ,  田所 昌宏 ,  乗峯 哲朗
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-046815
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199700
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：

【要約】【課題】照射対象の形状が複雑な場合でも、簡単な制御により、荷電粒子ビームを照射対象に精度よく、かつ、ビームの密度を一様に照射する。【解決手段】荷電粒子ビーム装置は、前段加速器98,シンクロトロン型の加速器100,回転照射装置110および制御装置群140から構成される。照射制御装置130は、加速器100から回転照射装置110への荷電粒子ビームの出射を制御する。演算装置131は、照射制御装置130が患部への荷電粒子ビームの照射を制御するために必要なデータを求める。加速器制御装置132は、前段加速器98から加速器100への荷電粒子ビームの出射,加速器100を周回する荷電粒子ビームの加速、および回転照射装置110における荷電粒子ビームの輸送を制御する。

請求項（抜粋）：

環状の荷電粒子加速器と、前記荷電粒子加速器から供給される荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置とを備える荷電粒子ビーム装置において、前記荷電粒子加速器は、前記荷電粒子ビームの出射および停止を切り替える出射切り替え手段を有し、前記照射装置は、前記照射対象に照射される前記荷電粒子ビームの照射位置を設定する電磁石を有し、前記出射切り替え手段を制御して前記荷電粒子ビームを出射および停止させ、および、前記電磁石を制御して前記照射位置を変更させる制御装置を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (3件)：

H05H 13/04 ,  A61N 5/10 ,  G21K 5/04

FI (4件)：

H05H 13/04 G ,  H05H 13/04 M ,  A61N 5/10 H ,  G21K 5/04 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-197273