特許

J-GLOBAL ID：200903013681062688

ポリオルガノシルセスキオキサンの製法

発明者： 渡辺 最昭 ,  水谷 幸雄 ,  片岡 良平
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-333023
公開番号（公開出願番号）：特開平6-179751
出願日： 1992年12月14日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：

【要約】【目的】粒度分布が揃った、球状の表面を有する微粒子よりなるポリオルガノシルセスキオキサンを、簡易に且つ再現性よく製造することが可能な、ポリオルガノシルセスキオキサンの製造方法を提供する。【構成】塩化水素を飽和させた水溶液中に、一般式RSiCl3(Rはアルキル基、アルケニル基またはアリール基を示す)で示されるオルガノクロルシランを供給して加水分解することにより、球状の表面を有するポリオルガノシルセスキオキサンの微粒子を製造する。

請求項（抜粋）：

塩化水素を飽和させた水溶液中に、一般式RSiCl3(Rはアルキル基、アルケニル基またはアリール基を示す)で示されるオルガノクロルシランを供給することを特徴とするポリオルガノシルセスキオキサンの製法。

IPC (2件)：

C08G 77/04 NUA ,  C08G 77/06 NUB