特許

J-GLOBAL ID：200903013682867400

フオトレジスト塗布装置

発明者： 内山 貴之
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331464
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144721
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：

【要約】【目的】 塗布カップ内の気圧の変動に拘らず、一定の膜厚のフォトレジスト膜を得る。【構成】 塗布カップ109内の気圧を気圧検知部110により検知し、データ演算部111は、その検知信号に基づいてモーター103の回転数を決定し、その出力によりモーター回転制御部104による制御の下にモーター103でウェハ101を回転させフォトレジストの塗布を行う。

請求項（抜粋）：

気圧検知部と、塗布条件制御手段とを有し、塗布カップ内に半導体基板を回転させて該基板表面にフォトレジストを塗布するフォトレジスト塗布装置であって、気圧検知部は、塗布カップ内の気圧を検知するものであり、塗布条件制御手段は、気圧検知部の検知信号に基づいて、半導体基板の回転数又は塗布カップ内湿度を変更して塗布条件を制御するものであることを特徴とするフォトレジスト塗布装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-262842
  
• 特開平2-224220
  
• 特開昭63-294965
  
• 特開平2-307566