特許

J-GLOBAL ID：200903013689791786

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 内海 義之 ,  清水 宏明 ,  吉井 靖博
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-235764
公開番号（公開出願番号）：特開2008-134607
出願日： 2007年09月11日
公開日（公表日）： 2008年06月12日
要約：

【課題】ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、前記樹脂成分(A)が、下記一般式(II)で表される構成単位(a1)からなる重合体(A2)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、 前記樹脂成分(A)が、下記一般式(II)で表される構成単位(a1)からなる重合体(A2)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  C08F 20/22 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/22 ,  H01L21/30 502R

Fターム (36件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40S ,  4J100BB18P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC12Q ,  4J100BC12R ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38