特許
J-GLOBAL ID:200903013695634064

透明絶縁性被膜形成用低融点ガラス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-065715
公開番号(公開出願番号):特開平10-316451
出願日: 1998年03月16日
公開日(公表日): 1998年12月02日
要約:
【要約】【課題】 透明電極線パターンを配した基板に低融点ガラス混合ペーストを塗布し焼付けした際に、従来、透明電極線の成分、ガラス成分が相互に滲出し、透明電極線の電気抵抗を増大し易いという不具合があったが、これを解消する。【解決手段】 表示パネル用基板に配した透明電極線パターン上に、透明な絶縁性被膜を形成するための低融点ガラスであって、SiO2-B2O3-PbO -ZnO 系基礎成分に前記透明電極線の成分をなす酸化物を 0.5〜5wt%の範囲で含んだ透明絶縁性被膜形成用低融点ガラス。
請求項(抜粋):
表示パネル用基板に配した透明電極線パターン上に、透明な絶縁性被膜を形成するための低融点ガラスであって、SiO2-B2O3-PbO -ZnO 系基礎成分に前記透明電極線の成分をなす酸化物を 0.5〜5wt%の範囲で含んだことを特徴とする透明絶縁性被膜形成用低融点ガラス。
IPC (3件):
C03C 8/10 ,  H01B 3/00 ,  H01B 3/08
FI (3件):
C03C 8/10 ,  H01B 3/00 F ,  H01B 3/08 A

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