特許

J-GLOBAL ID：200903013713919888

ミクロ細孔セラミックの製造方法

発明者： ジョン・ピー・ディスミュークス ,  ジャック・ダブリュー・ジョンソン ,  エドワード・ウィリアム・コーコラン・ジュニア ,  ジョセフ・バローン ,  ジェイムス・ジェイ・ピズーリ ,  マイケル・ポール・アンダーソン
出願人/特許権者： エクソン・リサーチ・アンド・エンジニアリング・カンパニー
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-149499
公開番号（公開出願番号）：特開平8-104580
出願日： 1995年05月24日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【目的】 表面積が70m2/gより大きく、ミクロ細孔の平均直径が20オングストロームより小さく、細孔容積が約0.03cm3/gより大きいミクロ細孔開放気泡構造を有するミクロ細孔セラミック物質を提供する。【構成】 セラミック前駆体と微細炭化珪素又は窒化珪素との混合物から成るプレセラミック複合中間組成物を不活性雰囲気下又はアンモニア雰囲気下で最高1100°Cの温度まで温度をコントロールしながら加熱してセラミック中間体を熱分解し、ミクロ細孔セラミック生成物を作成する。

請求項（抜粋）：

(a)数平均分子量が200〜100,000g/moleの範囲にあるセラミック前駆体オリゴマー又はポリマーを30〜99重量部と、炭化珪素、窒化珪素、珪素-炭化物-窒化物およびそれらの混合物から成るグループの中から選ばれたセラミック粒子であって、10ミクロンより小さい平均粒径又は平均直径を有するセラミック粒子を1〜70重量部とからなる緊密混合物を作成し、(b)不活性ガス又はアンモニアガスの存在下で、400°C〜1100°Cの範囲の最高温度まで、いくつかの中間温度で保温時間を設定した連続段階にし、加熱温度と保温時間の合計時間を5〜50時間にして、該混合物を徐々に加熱してミクロ細孔セラミック生成物を生成し、(c)該ミクロ細孔セラミック生成物を冷却すること、を特徴とする、平均直径が20オングストロームより小さく、細孔容積が0.03cm3/gより大きい開放気孔のミクロ細孔を有する、表面積が70m2/gより大きいミクロ細孔セラミック生成物を製造する方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-231388
  
• 特開平4-063833
  
• 特開昭63-309526
  
• 複合セラミックスの成形方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-254269   出願人：日本セメント株式会社