特許
J-GLOBAL ID：200903013715407850
ウエハ洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-071615
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283487
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【構成】 容器本体11とノズル20とにより装置本体10が構成され、装置本体10の内側にウエハ支持台13が配設され、ノズル20がウエハ支持台13上に配置されるウエハ14正面に配設されたウエハ洗浄装置において、容器本体11のノズル20周辺に窓部12が形成され、窓部12近傍に紫外線ランプ17が配設されているウエハ洗浄装置。【効果】 ノズル20から噴出したガスを直接ウエハ14全体に均一に吹き付けることができ、ノズル20より噴出した単独のガスあるいは混合ガスは、紫外線により活性化され、あるいは活性化した後に他のガスと反応等を行い、その後すぐにウエハ14表面で酸化膜等と反応してガス等を生成するので、より迅速にかつ均一に酸化膜等の除去が行うことができる。また、種々のガスを用いて、様々の種類の汚染に対する洗浄処理を行うことができる。
請求項（抜粋）：
容器本体とノズルとにより装置本体が構成され、該装置本体の内側にウエハ支持台が配設され、前記ノズルが前記ウエハ支持台上に配置されるウエハ正面に配設されたウエハ洗浄装置において、前記容器本体の前記ノズル周辺に窓部が形成され、該窓部近傍に紫外線ランプが配設されていることを特徴とするウエハ洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/302
