特許
J-GLOBAL ID：200903013730924623
薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-054964
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259092
出願日： 1992年03月13日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】 ウエハへのダスト付着量が少なく均一な膜厚を提供することのできる薄膜形成装置を提供することを目的とする。【構成】 反応室2と、反応室にガスを供給するガス供給口10と、反応室から反応ガスを排気する排気口3と、反応室内にウエハを固定する真空チャック6と、ウエハを加熱するヒーター5と、ウエハに臨んで設けられたガス供給ヘッド8aとを備え、該ガス供給ヘッドが多管構造をなす薄膜形成装置。【効果】 ウエハへのダスト付着量が少なく均一な膜厚を提供することができる。
請求項（抜粋）：
反応室と、反応室にガスを供給するガス供給口と、反応室から反応ガスを排気する排気口と、反応室内にウエハを固定するウエハ保持手段と、ウエハ加熱手段と、ウエハに臨んで設けられたガス供給ヘッドとを備え、該ガス供給ヘッドが多管構造をなすことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (2件)：
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