特許
J-GLOBAL ID:200903013734332658

還元性ガス製造方法及び製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 植木 久一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-208409
公開番号(公開出願番号):特開平5-024802
出願日: 1991年07月24日
公開日(公表日): 1993年02月02日
要約:
【要約】【構成】 軽質炭化水素原料を等モル以上の水蒸気によって改質し還元性ガスを製造するにあたり、?@予熱した軽質炭化水素原料の一部を水蒸気と混合して第1段の改質炉に供給し、水蒸気改質反応により前記軽質炭化水素の一部を改質する工程、及び?A第1段の改質炉から出る一部改質されたガスに残りの軽質炭化水素原料を混合して第2段の改質炉に供給し、水蒸気改質反応により該炭化水素を更に改質する工程を含む還元性ガスの製造方法。【効果】 還元性ガス比の高い改質ガスを効率よく、しかも炭素を析出することなく製造できるようになった。
請求項(抜粋):
軽質炭化水素原料を等モル以上の水蒸気によって改質するにあたり、下記の工程を含むことを特徴とする還元性ガス製造方法。?@予熱した軽質炭化水素原料の一部を水蒸気と混合して第1段の改質炉に供給し、水蒸気改質反応により前記軽質炭化水素の一部を改質する工程。?A第1段の改質炉から出る一部改質されたガスに残りの軽質炭化水素原料を混合して第2段の改質炉に供給し、水蒸気改質反応により該炭化水素を更に改質する工程。

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