電子ビーム励起プラズマ成膜装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西教圭一郎 , 廣瀬峰太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-347450
公開番号（公開出願番号）：特開2004-111980
出願日： 2003年10月06日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】原料ガスの種類が変化したり、混合ガスを用いる場合でも、成膜速度の低下を防ぎ、成膜組成の均質化を図ることができる電子ビーム励起プラズマ成膜装置を提供する。【解決手段】電子ビーム励起プラズマ成膜装置1は、高いエネルギーを持つ電子ビームを発生する電子ビーム発生装置2aと、低いエネルギーを持つ電子ビームを発生する電子ビーム発生装置2bと、電子ビーム励起によってプラズマを発生するプラズマ反応装置3とを備える。高いエネルギーの電子ビームが入射すると、電離または解離に高い活性化エネルギーを必要とするガス分子から成るプラズマPBaを効率良く生成する。低いエネルギーの電子ビームが入射すると、低い活性化エネルギーのガス分子から成るプラズマPBbを効率良く生成する。各プラズマPBa,PBbは、試料S上で化学的気相成長を行って、多元素薄膜を成膜する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

電子ビームによって励起されるプラズマを利用して、試料上で化学的気相成長を行う電子ビーム励起プラズマ成膜装置において、電子ビームを発生するための複数の電子ビーム発生手段を備え、さらに各電子ビーム発生手段は、電子ビームを加速するための加速電極を備え、各加速電極から試料までの距離がそれぞれ異なるように配置されることを特徴とする電子ビーム励起プラズマ成膜装置。

IPC (3件)：

H01L21/205 , C23C16/50 , H01J37/32

FI (3件)：

H01L21/205 , C23C16/50 , H01J37/32

Fターム (12件)：

4K030FA12 , 4K030JA03 , 4K030JA09 , 4K030JA14 , 4K030KA14 , 5F045AA08 , 5F045AA14 , 5F045AB01 , 5F045AC01 , 5F045AC16 , 5F045BB04 , 5F045EH19

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭59-47380号公報
特開平1-252781号公報

前のページに戻る