特許

J-GLOBAL ID：200903013738493249

珪素含有高分子化合物および感光性樹脂組成物

発明者： 岩佐 繁之
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-133586
公開番号（公開出願番号）：特開平8-325455
出願日： 1995年05月31日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：

【要約】【目的】 220nm以上の波長に加えて、220nm以下の短波長光にも使用可能な高分子化合物を提供する。【構成】 側鎖にビニル基を有するポリシルセスキオキサンとアルコキシシランより得られる酸により架橋して珪素含有高分子化合物を得る。またこの珪素含有高分子化合物と光酸発生剤とを組合せて感光性樹脂組成物を得る。【効果】 本発明に係る感光性樹脂組成物は、Deep UV光照射により露光部が溶媒に不溶となるため、パターン形成が可能である。また本発明の珪素含有高分子化合物は、化学増幅レジストとして使用可能な化合物である。また、220nm以下の光に対して透明性が高いため、ArF光(193nm)等にも使用可能である。また、珪素原子含有率が高いことから耐酸素プラズマ性に優れ、レジストのパターン転写において酸素によるドライエッチングが可能となる利点がある。

請求項（抜粋）：

下記の一般式【式1】で表され、式中、R1は炭素数2〜8の飽和炭化水素2価基を表し、R2は、炭素数1〜8の炭化水素基,R3は炭素数1〜8の炭化水素基を表し、Zは、水素原子あるいはトリメチルシリル基を表し、aは1〜3,bは0〜2,aとbの和は3,nは10〜500の正の整数であることを特徴とする珪素含有高分子化合物。

IPC (5件)：

C08L 83/04 LRM ,  C09D183/04 PMM ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C08L 83/04 LRM ,  C09D183/04 PMM ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R