特許
J-GLOBAL ID：200903013747583005
基板保持装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-020210
公開番号（公開出願番号）：特開平5-218180
出願日： 1992年02月05日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 半導体装置製造工程などで使用される露光装置、検査測定装置などで、マスクレチクル等の基板を吸着保持して処理、測定を行う装置に於いて、基板のレベリング及びフォーカス位置の設定が基板を吸着固定するときの変形により発生する精度の低下、合わせずれの発生を低減し、さらに基板自体にキズ等を生ずることもなく、ゴミの発生も少ないなどの効果を得る事を目的とする。【構成】 気体を内包した弾性体により基板上下両面より挟み込む事により基板の保持と位置の固定を行ない、さらに気体を内包した弾性体の上下の圧力を制御することにより基板のレベリング及びフォーカス位置の設定を行う構成をとる。【効果】 基板を吸着固定するときの変形による精度の低下、合わせずれの発生を低減し、さらに基板自体にキズ等を生ずることもなく、ゴミの発生も少ないなどの効果を得る事が出来た。
請求項（抜粋）：
半導体装置製造工程などで使用される露光装置、検査測定装置などで、マスク、レチクル等の基板を保持して処理、測定を行う装置に於いて、気体を内包した弾性体により上下両面より挟み込む事により基板の保持と位置の固定を行う機構を有する事を特徴とする基板保持装置。
IPC (2件)：
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