特許
J-GLOBAL ID:200903013749610166

液晶層のパターニング方法およびそれに用いられるパターニング用原版

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 吉武 賢次 ,  永井 浩之 ,  岡田 淳平 ,  名塚 聡 ,  森 秀行 ,  勝沼 宏仁 ,  鈴木 清弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-178320
公開番号(公開出願番号):特開2004-021073
出願日: 2002年06月19日
公開日(公表日): 2004年01月22日
要約:
【課題】光学素子として用いられる液晶層を効率的にかつ高い品質でパターニングを行うことができる方法を提供する。【解決手段】まず、液晶層12の表面を覆うように保護層13が形成されたパターニング用原版10を準備する(図1(a)(b))。次に、液晶層12および保護層13のうち、光学素子の外縁に対応する輪郭部分にレーザ光21を所定の線幅で照射して除去し、輪郭線15を形成する(図1(c))。その後、液晶層12および保護層13のうち、光学素子の外形に対応する部分12a,13aを残してその外周部分12b,13bを支持基材11から剥離して除去する(図1(d))。最後に、光学素子の外形に対応するパターンが付与された液晶層12aの表面から保護層13aを除去し、支持基材11上に所定のサイズの液晶層12aが形成された光学素子20(図1(e))を製造する。なお、保護層13aは溶剤に曝すことにより除去することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
液晶層と、この液晶層の表面を覆うように形成された保護層とを有するパターニング用原版を準備する工程と、 前記パターニング用原版の前記液晶層に対して前記保護層側からレーザ光を照射し、前記液晶層および前記保護層を部分的に除去することにより、前記液晶層および前記保護層に所定のパターンを付与する工程と、 前記所定のパターンが付与された前記液晶層の表面から前記保護層を除去する工程とを含むことを特徴とする、液晶層のパターニング方法。
IPC (3件):
G02B5/20 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335
FI (4件):
G02B5/20 101 ,  G02B5/20 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335 505
Fターム (31件):
2H048AA06 ,  2H048AA12 ,  2H048AA24 ,  2H048AA25 ,  2H048BA04 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB08 ,  2H048BB37 ,  2H048BB42 ,  2H049BA05 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB16 ,  2H049BB66 ,  2H049BC22 ,  2H091FA02 ,  2H091FA11 ,  2H091FA12 ,  2H091FB02 ,  2H091FB12 ,  2H091FC01 ,  2H091FC16 ,  2H091FD06 ,  2H091GA16 ,  2H091JA01 ,  2H091LA07 ,  2H091LA12 ,  4E068AC01 ,  4E068AD01 ,  4E068DA09

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