特許

J-GLOBAL ID：200903013752463417

電圧駆動電極を有する処理装置及び粒子補集方法

発明者： ジエローム・ジヨン・クオモ ,  マイケル・ビンセント・ガージオツソ ,  チヤールズ・リチヤード・ガレニエリ ,  クート・リンドセイ・ホラー ,  ジヨン・エドワード・ハイデンリツチ ,  ゲイリー・スチユワート・セレン ,  スタンレー・ジヨセフ・ホワイトヘアー
出願人/特許権者： インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイシヨン
代理人 (1件)： 頓宮 孝一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-116695
公開番号（公開出願番号）：特開平5-074737
出願日： 1991年04月22日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】電圧駆動電極を有するプロセス・チェンバに粒子汚染に対する自浄能力を付与して、半導体製品等の歩留りを向上させ、且つ性能低下を防止する。【構成】電圧駆動電極12を有するプロセス・チェンバ10に、加工物表面または電極表面の形状を突起部、溝、またはテーパ部が形成されるよう適切な構成とすることによりプロセス・チェンバ内の静電位に所定のパターン18を形成せしめ、これによって汚染粒子30をプロセス・チェンバ内の所定領域に捕集する。これらの粒子は、次いで、ポンプポートを介してプロセス・チェンバから排出することができる。【効果】本発明によれば、プロセス・チェンバ内の粒子汚染を著しく減少させることによって、半導体製品等の歩留りの向上及び性能低下の防止が可能となる。

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの電圧駆動電極を有する持つプロセス・チェンバと、上記チェンバ中で発生した粒子を所定の場所へ指向させることができる静電位を得るための手段と、を具備した装置。

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭61-119685
  
• 特開平3-194842
  
• 特開昭63-016625
  
• 特開昭60-242622
  
• 特開昭61-224423