特許
J-GLOBAL ID：200903013778981289
圧力制御装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮田 金雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-010975
公開番号（公開出願番号）：特開平9-204226
出願日： 1996年01月25日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：
【要約】【課題】 プロセス条件が異なると同量の弁開度の変化に対し調節弁を流れる物体の流量変化が異なるため、制御量と操作量の関係であるプロセスゲインが異なり、プロセス条件に応じて制御パラメータを変えなくてはならない。【解決手段】 制御回路6の操作量として調節弁3を流れる流量を用い、調節弁を流れる流量が上記操作量となるようにプロセス条件および調節弁特性から調節弁開度を算出する演算回路7を備えた。また、プロセス条件として、調節弁入口圧力8、調節弁出口圧力9、調節弁を流れる物体の温度10、および調節弁を流れる物体の分子量のうちの少なくとも一つを用いる。また、調節弁入口圧力、調節弁出口圧力、調節弁を流れる物体の温度、または調節弁を流れる物体の分子量として制御設定値を用いる。調節弁の流量変化が予期された場合に、上記流量変化を演算回路に入力して操作量に対してフィードフォワード制御を行う。
請求項（抜粋）：
被制御部の圧力を測定する圧力計、上記被制御部の圧力を調節する調節弁、および上記圧力計の測定値と設定値との偏差から操作量を算出し、該操作量に応じて上記調節弁開度を制御する制御回路を備えるものにおいて、上記操作量として上記調節弁を流れる流量を用い、調節弁を流れる流量が上記操作量となるようにプロセス条件および調節弁の固有特性から上記調節弁開度を算出する演算回路を備えたことを特徴とする圧力制御装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G05D 16/16 Z
, H01M 8/04 A
