位相シフトマスク検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-234270
公開番号（公開出願番号）：特開平10-078648
出願日： 1996年09月04日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】本発明は、スペックルの影響を受けずに位相シフタの位相量を高精度に測定して信頼性を向上する。【解決手段】UVレーザ光源10から出力されたUVレーザ光を、このUVレーザ光の光軸に対して回転移動する拡散板30を透過させて照明光学系12に送り、この照明光学系12により互いに直交する偏光面を持つ2つの直線偏光に分離して位相シフトマスク3に照射し、この位相シフトマスク3を透過した2つの直線偏光を検出光学系20により重ね合わせ、その干渉光に基づいて位相シフトマスク3の位相シフタ2の位相量を求める。

請求項（抜粋）：

遠紫外のレーザ光を出力するレーザ光源と、このレーザ光源からのレーザ光を拡散放射の光源に変換する拡散光学系と、この拡散光学系を前記レーザ光の光軸に対して移動させる移動手段と、前記拡散光学系により変換された拡散放射のレーザ光を互いに直交する偏光面を持つ2つの直線偏光に分離して位相シフトマスクに照射する照明光学系と、前記位相シフトマスクを透過した2つの直線偏光を重ね合わせて干渉光を発生させる検出光学系と、この検出光学系により検出された干渉光の強度に基づいて前記位相シフトマスクにおける位相シフタの位相量を求める位相量算出手段と、を具備したことを特徴とする位相シフトマスク検査装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (5件)：

G03F 1/08 S , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 528

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