特許

J-GLOBAL ID：200903013785497759

水素水の連続製造方法及びその製造装置並びに水素水を使用した入浴装置及び浴室装置

発明者： 川崎 重雄
出願人/特許権者： 株式会社カワクリーン ,  川崎 重雄
代理人 (1件)： 近藤 彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-178057
公開番号（公開出願番号）：特開2008-006365
出願日： 2006年06月28日
公開日（公表日）： 2008年01月17日
要約：

【課題】洗浄効果や抗酸化機能を備えた水素水を、安全に使用できる状態で連続製造し、また水素水を安全に使用できる入浴装置及び浴室装置を提供する。【解決手段】気液混合ポンプ3で水素ガスBと水Aを混合して所定の圧力で吐出し、流路途中に水素混入水を攪拌して気泡を微細化する攪拌部4を通した後、流速を緩めて滞流させて(放気安定槽5)、余剰水素Eを放出させ、飽和水素水を連続製造する。また加熱部を採用して、水に変えて温水を使用することで入浴装置として適用し、更に水素センサを備えた浴室と組み合わせることで、安全な浴室装置としたものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

気液混合ポンプで水素ガスと水を混合して所定の圧力で吐出し、流路途中に水素混入水を攪拌して気泡を微細化する攪拌部を通した後、流速を緩めて滞流させて余剰水素を放出させ、飽和水素水を連続製造することを特徴とする水素水の連続製造方法。

IPC (3件)：

B01F 1/00 ,  C02F 1/68 ,  A47K 3/00

FI (9件)：

B01F1/00 A ,  C02F1/68 510B ,  C02F1/68 510H ,  C02F1/68 520B ,  C02F1/68 530A ,  C02F1/68 540Z ,  C02F1/68 530L ,  C02F1/68 530K ,  A47K3/00 Z

Fターム (7件)：

2D005FA00 ,  4G035AB10 ,  4G035AB15 ,  4G035AC01 ,  4G035AC33 ,  4G035AC48 ,  4G035AE02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 洗濯水、風呂水等へ供給する水素飽和水の大量連続供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-206628   出願人：有限会社情報科学研究所
• 水素還元水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-227095   出願人：株式会社ノーリツ