特許
J-GLOBAL ID：200903013787290221
電子回路装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-094134
公開番号（公開出願番号）：特開平7-302826
出願日： 1994年05月06日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【構成】電子回路装置のある任意の層の製造工程後において、その層のパターンの形状の測定、あるいは物性値の測定などを行うか、その製造工程における製造装置のモニタ情報を得ることにより,その層の実際のパターン状態の情報を用いて、その次の層以降の製造プロセスをシミュレータにより予測し、その次の層以降の製造条件を最適化するか、パターンの修正を行なうかして所望の電気回路特性を得ることを特徴とした製造方法及び製造システム。【効果】製造の途中で修正や製造条件の補正をしながら製造を進めていくため、不良となり廃棄していた電子回路装置を良品に戻すといった高歩留まりの実現や、開発期間の短縮が可能となる。
請求項（抜粋）：
検査装置によって測定される電子回路の任意の工程の検査結果に基づいて該任意の工程までの電子回路を修正するか、該任意の工程の次以降の製造条件を最適化するかして所望の性能を得ることを特徴とする電子回路装置の製造方法。
IPC (4件)：
H01L 21/66
, G06F 17/50
, H01L 21/02
, B23Q 41/08
