特許
J-GLOBAL ID：200903013791349800
平行平板型プラズマ処理装置及びこれに用いられる電極板
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-212760
公開番号（公開出願番号）：特開2000-049138
出願日： 1998年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：
【要約】【課題】 平行平板型プラズマ処理装置のシールド部材と電極板の隙間からプラズマが侵入するのを防止し、取付ねじとの異常放電などによる反応容器内のパーティクル汚染を防止した平行平板型プラズマ処理装置及びこの平行平板型プラズマ処理装置に好適に用いられるシールド部材と電極板の隙間からプラズマが侵入するのを防止できる電極板を提供する。【解決手段】 複数の貫通孔を有する上部電極板と、これに平行に配置された下部電極を有し、前記上部電極板の外周部がシールド部材で覆われている平行平板型プラズマ処理装置の上部電極板の外周部とシールド部材の間に絶縁性フィルムを介在させる。外周部のプラズマ放電面側に絶縁性フィルムを貼り付けた平行平板型プラズマ処理装置の上部電極板。
請求項（抜粋）：
複数の貫通孔を有する上部電極板と、これに平行に配置された下部電極を有し、前記上部電極板の外周部がシールド部材で覆われている平行平板型プラズマ処理装置において、上部電極板の外周部とシールド部材の間に絶縁性フィルムを介在させたことを特徴とする平行平板型プラズマ処理装置。
Fターム (3件)：
5F004AA16
, 5F004BA04
, 5F004BB32
