特許

J-GLOBAL ID：200903013810125551

露光装置

発明者： 森岡 利伸 ,  横田 宗泰
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-182170
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017721
出願日： 1995年06月26日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】 基板の伸縮があった場合に、重視したい方向のパターンの連続性、重ねあわせ精度の向上を図る。【構成】 顕微鏡32によって基板上に予め形成された直交2軸方向それぞれに応じたアライメントマーク(マーク)が検出されると、主制御部50では、各マークの位置及び個数を検出し、検出された特定のマークの位置情報と当該特定のマークの設計上の位置情報とに基づいて基板の直交2軸方向の伸縮率をそれぞれ算出し、算出された各軸方向の伸縮率を、検出された直交2軸方向のそれぞれの軸方向に応じたマークの数に応じて重み付けしてその平均値を求め、この求めた伸縮率の重みつき平均値を倍率補正値として設定する。倍率コントローラ30では、この設定された倍率補正値に基づいて倍率調整機構28を介して投影光学系の倍率を補正する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板上に連続的に存在する複数の領域につなぎ合わせて順次転写する露光装置であって、前記基板が載置される直交2軸方向に移動可能なステージと;前記基板上に予め形成された前記直交2軸方向それぞれに応じたアライメントマークの位置及び個数を検出するマーク検出手段と;設定された倍率補正値に基づいて前記投影光学系の倍率を補正する倍率補正手段と;前記検出手段により検出された特定のアライメンマークの位置情報と当該特定のアライメントマークの設計上の位置情報とに基づいて前記基板の前記直交2軸方向の伸縮率をそれぞれ算出する演算手段と;前記算出された前記直交2軸方向の各軸方向の伸縮率を、前記検出手段により検出されたそれぞれの軸方向に応じたアライメントマークの数に応じて重み付けしてその平均値を求め、この求めた前記伸縮率の重みつき平均値を前記倍率補正値として設定する設定手段とを有する露光装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 525 W

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-070420
  
• 露光方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-168214   出願人：株式会社ニコン