特許
J-GLOBAL ID：200903013810366818
撮像素子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360263
公開番号（公開出願番号）：特開平5-182616
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】 素子の機械的強度の向上を図ると共に、マイクロカソードと光電変換膜層との間の隙間の真空度を長期間にわたり安定に保つことが可能であり、素子の動作が安定しており、しかも大幅な感度向上と高集積化が可能で、製造が容易な撮像素子およびその製造方法を提供すること。【構成】 基板32上に、所定パターンの走査用グリッド層34,38と絶縁膜層36,40とが形成してあり、上記走査用グリッド層34,38と絶縁膜層36,40とを貫通して、画素に対応するような所定のパターンでカソード用穴42が配列してあり、各カソード用穴42内の底部に、マイクロカソード44が形成してあり、上記走査用グリッド層34,38の上部に、絶縁膜層40を介して、光電変換膜層46と、出力用透明電極層48とが、上記各カソード用穴42内が相互に独立して所定の真空度に保たれるように、積層してある。
請求項（抜粋）：
基板上に、所定パターンの走査用グリッド層と絶縁膜層とが少なくとも一層以上形成してあり、上記走査用グリッド層と絶縁膜層とを貫通して、画素に対応するような所定のパターンでカソード用穴が配列してあり、各カソード用穴内の底部に、マイクロカソードが形成してあり、上記走査用グリッド層の上部に、絶縁膜層を介して、光電変換膜層と、出力用透明電極層とが、上記各カソード用穴内が相互に独立して所定の真空度に保たれるように、積層してあることを特徴とする撮像素子。
IPC (3件)：
H01J 31/28
, H01J 1/30
, H01J 9/02
