特許

J-GLOBAL ID：200903013849881434

含フッ素重合体膜にパターンを形成する方法

発明者： 鈴木 克巳 ,  横塚 俊亮 ,  青崎 耕
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-190354
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043856
出願日： 1995年07月26日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】フォトレジスト層を形成することなく、露光により含フッ素重合体膜に直接パターンを形成する方法を提供する。【解決手段】官能基と含フッ素脂肪族環構造とを有する重合体、カップリング剤および含フッ素溶剤を含む樹脂組成物をキャストして得られる含フッ素重合体膜に紫外線を露光し、次いで露光部分を含フッ素溶剤によりエッチングする含フッ素重合体膜にパターンを形成する方法。

請求項（抜粋）：

官能基と含フッ素脂肪族環構造とを有する重合体、カップリング剤および含フッ素溶剤を含む樹脂組成物をキャストして得られる含フッ素重合体膜に紫外線を露光し、次いで露光部分を含フッ素溶剤によりエッチングすることを特徴とする含フッ素重合体膜にパターンを形成する方法。

IPC (5件)：

G03F 7/40 521 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/38 512 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

G03F 7/40 521 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/38 512 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/306 A