特許
J-GLOBAL ID：200903013856415490
レーザプラズマ発生方法およびそのシステム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-085762
公開番号（公開出願番号）：特開2002-289397
出願日： 2001年03月23日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：
【要約】【課題】 ターゲット材から高速の微粒子が飛散して周辺に存在する光学素子、X線検出器などに損傷を与えることがなく、連続して安定した高温高密度プラズマを生成することができる。【解決手段】 予熱用光ビーム202によりターゲット材102を加熱し気化して形成された高密度の噴出ガス流の先端を、主レーザビーム201が集光照射してプラズマ化しているので、ターゲット材による高速微粒子の発生を抑制することができる。またプラズマ生成後、ターゲット材から放出された破片微粒子を時間的に調整された蒸散用光ビーム203で加熱し、これを蒸発・気化させることにより、ターゲット材による高速微粒子の放出を抑制し消滅することができる。従って、予熱によるプラズマ化でなお発生した微粒子を蒸散用光ビームによりほぼ完全に蒸発・気化させている。
請求項（抜粋）：
固体および液体の少なくとも一方である物質をターゲット材とし、該ターゲット材にレーザによるパルスビームを主レーザビームとして集光照射することにより該ターゲット材を加熱して高温高密度プラズマを生成するレーザプラズマ発生方法において、前記主レーザビームを用い、前記ターゲット材の表面で集光照射点を集光照射して前記ターゲット材の表面で気化されたターゲット材をプラズマ化するプラズマ生成手順に加えて、ターゲット材予熱手順および微粒子蒸散手順の少なくとも一方を備え、前記ターゲット材予熱手順は、予熱用光ビームを用意し、前記ターゲット材の表面で前記主レーザビームの集光照射点を集光照射して予め加熱し、前記ターゲット材の表面でターゲット材を気化させて前記表面で垂直方向に高密度の噴出ガス流として噴出させ、また前記微粒子蒸散手順は、蒸散用光ビームを用意し、前記プラズマが拡散したのち前記集光照射点の近傍を照射して前記主レーザビームの集光照射により発生した前記ターゲット材の微粒子を蒸散させることを特徴とするレーザプラズマ発生方法。
IPC (3件)：
H05H 1/24
, G21K 1/00
, G21K 5/08
H05H 1/24
, G21K 1/00 X
, G21K 5/08 X
