投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-314838
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163353
出願日： 1992年11月25日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：

【要約】【目的】ウエハ又はレチクルが載置されたステージを加速する際に、その駆動力の反作用によりそのステージの支持部の傾きや変形が生じないようにする。【構成】ベース1上に防振ばね2A,2Bを介してコラム12A及び12Bを載置し、第1コラム12A内にウエハ6のステージ系4,5を配置し、第2コラム12B上にレチクル11のステージ系9を配置する。ベース1上に植設された固定コラム13の電磁石部15A,19Aからコラム12A,12Bの永久磁石埋め込み部14A,18Aにリニアモーター方式で力を付与する。

請求項（抜粋）：

所定形状の照明領域内を照明する照明光学系と、マスクを保持して前記照明領域に対して前記マスクを相対的に走査するマスク走査手段と、該マスク走査手段が載置されたマスクベースと、前記照明領域内の前記マスク上のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して前記照明領域の共役像に対して前記感光基板を相対的に走査する基板走査手段と、該基板走査手段が載置された基板ベースとを有し、前記照明領域に対して相対的に前記マスク及び前記感光基板を同期して走査することにより、前記照明領域よりも広い前記マスク上の領域のパターンの像を前記感光基板上に投影する投影露光装置において、前記基板ベースとは独立に配置された固定部材に、前記基板ベースに対して付勢力を与える基板ベース付勢手段を設け、前記感光基板を前記照明領域の共役像に対して相対走査する際に前記基板ベースに与えられる力と逆方向で大きさがほぼ等しい力を前記基板ベース付勢手段から前記基板ベースに与えるようにした事を特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-001585
特開昭63-153819
特開昭64-053417

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審査官引用 (1件)

特開平2-001585

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