特許
J-GLOBAL ID：200903013863879817
スチレン流中のフエニルアセチレンの接触還元
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-223948
公開番号（公開出願番号）：特開平6-157364
出願日： 1993年08月18日
公開日（公表日）： 1994年06月03日
要約：
【要約】【構成】 多重水素注入;窒素などの希釈剤による水素の希釈;一酸化炭素などの触媒選択性改良剤と水素の混合;水素の供給のためのエチルベンゼン脱水素排気ガスの利用;及び多重触媒床反応器又はそれぞれ1つの触媒床を持つ多重反応器の使用による、スチレンモノマー中のフェニルアセチレン汚染物を触媒床中でスチレンに水素化することによるスチレンモノマーの触媒的精製のための方法及び装置を開示する。用いられた1つの好ましいフェニルアセチレン還元触媒は、アルミナ担体上のパラジウムである。【効果】 スチレンのエチルベンゼンへの還元を最小にして有効にフェニルアセチレンをスチレンに還元することができる。
請求項（抜粋）：
スチレンモノマー流中のフェニルアセチレンの還元法において、該方法が水素流、及び窒素分子を含む希薄ガスを、窒素に対する水素のモル比が約2:1から約1:4の範囲にて混合し、該水素/窒素混合物を、フェニルアセチレンを含むスチレンモノマー流に注入し、該モノマー流を該混合ガスと共に、フェニルアセチレンをスチレンに水素化するのに十分な温度で還元触媒床を通して流し、該流れから部分的に精製されたスチレンを回収し、部分的に精製された該スチレンモノマー流に該還元触媒床の直下流で第2水素流を注入し、スチレンモノマー及び混合ガスの該流れを、フェニルアセチレンをスチレンに水素化するのに十分な温度で第2還元触媒床を通して流す段階を含むことを特徴とする方法。
IPC (4件)：
C07C 15/46
, B01J 23/44
, C07C 7/167
, C07B 61/00 300
