特許

J-GLOBAL ID：200903013884020220

薄膜の製造方法およびそれに用いる薄膜製造装置

発明者： 一條 力 ,  塚本 遵
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-006124
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216022
出願日： 1993年01月18日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【構成】基材に、加水分解性基が直接ケイ素原子に結合したケイ素化合物を接触させた後、共役系重合体膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。【効果】基材と、共役重合体膜とが良好な密着性を有し、例えば、フォトレジストパターン形成などに用いた場合、パターンの寸法変動が小さい二層構造フォトレジストパターンが得られる。

請求項（抜粋）：

基材に、加水分解性基が直接ケイ素原子に結合したケイ素化合物を接触させた後、共役系重合体膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/025 ,  G03F 7/11 503

FI (2件)：

H01L 21/30 361 T ,  H01L 21/30 361 S