特許

J-GLOBAL ID：200903013886342616

二重パターニングのための分割および設計指針

発明者： ヴァンソン・ジャン-マリー・ピエール・ポール・ヴィオー ,  フスターフ・フェルハエヘン
出願人/特許権者： アンテルユニヴェルシテール・ミクロ-エレクトロニカ・サントリュム・ヴェー・ゼッド・ドゥブルヴェ
代理人 (3件)： 山田 卓二 ,  田中 光雄 ,  竹内 三喜夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-038912
公開番号（公開出願番号）：特開2009-200499
出願日： 2009年02月23日
公開日（公表日）： 2009年09月03日
要約：

【課題】リソグラフプロセスで用いられる二重パターニングプロセスを最適化するための良好な方法およびシステムを提供する。【解決手段】単一層でのパターンの多重パターニングリソグラフプロセスを設定する方法が開示される。多重パターニングリソグラフプロセスは、第1パターニングステップと、少なくとも第2パターニングステップとを含む。方法は、少なくとも1つのプロセス条件に関して、多重パターニングリソグラフプロセスに関するパターンの設計パラメータ及び/又は分割パラメータの関数として、分割に関連したプロセス品質を表す少なくとも1つの計量に関する値を得ることを含む。方法は、少なくとも1つの計量の前記値を、設計パラメータ及び分割パラメータに基づいて評価し、少なくとも1つのプロセス条件を考慮することを含み。方法は、前記評価に基づいて多重パターニングリソグラフプロセスを用いて処理すべきパターンを分割するための設計及び/又は分割指針を導出することを含む。【選択図】図1b

請求項（抜粋）：

複数の設計特徴物を含む、単一層でのパターンを処理するための多重パターニングリソグラフプロセスを設定するための方法であって、 多重パターニングリソグラフプロセスは、第1パターニングステップと、少なくとも第2パターニングステップとを含み、 該方法は、少なくとも1つのプロセス条件に関して、多重パターニングリソグラフプロセスに関するパターンの設計パラメータ及び/又は分割パラメータの関数として、分割に関連したプロセス品質を表す少なくとも1つの計量に関する値を得ることと、 少なくとも1つの計量の前記値を、設計パラメータの関数及び/又は分割パラメータの関数として評価し、前記少なくとも1つのプロセス条件を考慮することと、 前記評価に基づいて、多重パターニングリソグラフプロセスを用いて処理すべきパターンを分割するための設計及び/又は分割指針を導出することを含む方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08

FI (3件)：

H01L21/30 514A ,  H01L21/30 502C ,  G03F1/08 D

Fターム (2件)：

2H095BB02 ,  5F046AA11