特許
J-GLOBAL ID：200903013892486506
内部応力を低減する光硬化造形法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小玉 秀男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-247126
公開番号（公開出願番号）：特開平7-100937
出願日： 1993年10月01日
公開日（公表日）： 1995年04月18日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 光硬化造形法で歪みの少ない三次元物体を速く造形できるようにする。【構成】 断面のうち輪郭部分は全層について照射し、内部領域については隔層もしくは複数の層のうちの一層についてのみ光照射する。【効果】 内部領域の光照射が層によっては省略されるため造形時間が短縮化する。また多数回照射されて内部応力が蓄積するということが防止される。
請求項（抜粋）：
造形希望形状を複数の層にスライスする断面群のデータに基づいて、光硬化性液の液面の前記断面群のうちの一断面に相当する領域内を光照射する工程と、前記光照射工程で形成される断面硬化層の表面を未硬化状態の光硬化性液でコートする工程とを、前記光照射工程で扱う断面を隣接する断面に切換えながら繰返すことで断面硬化層が積層一体化されて全体として造形希望形状を呈する三次元物体を造形する光硬化造形法において、前記断面群の輪郭部分は全層について光照射し、輪郭内部領域は複数層ごとに一回光照射するように、輪郭内部領域に対する光照射工程を所定層について省略することを特徴とする内部応力を低減する光硬化造形法。
IPC (3件)：
B29C 67/00
, B29C 35/08
, G03B 27/32
