特許

J-GLOBAL ID：200903013906488523

三次元モデリング方法および装置

発明者： 大上 靖弘 ,  藤村 恒太
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-052438
公開番号（公開出願番号）：特開2004-264937
出願日： 2003年02月28日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：

【課題】パターン投影法により対象物の三次元形状を求める際、髪の毛などの黒い領域ではステレオ処理が困難である。【解決手段】マスク生成部40は、対象物の基準画像24においてステレオ処理に不向きな領域を特定し、マスクパターン28を作成する。概略形状生成部44は、対象物のシルエット画像26を用いて、対象物の概略形状データ34を生成する。画像記憶部22には、対象物にパターンを照射して異なる視点位置から撮影した複数のパターン照射画像30が格納される。マスク投影部42は、概略形状データ34にもとづいてマスクパターン28をパターン照射画像30に投影する。ステレオ処理部46は、投影されたマスクパターン28をステレオ処理の対象から外して、複数のパターン照射画像30をステレオ処理し、対象物の詳細形状データ36を生成する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

対象物のステレオ処理に不向きな領域を特定してマスクを作成し、そのマスクにもとづいて前記対象物のステレオ用画像から前記不向きな領域に対応する領域以外の領域に対してステレオ処理を施して前記対象物の三次元モデルを生成することを特徴とする三次元モデリング方法。

IPC (1件)：

G06T17/40

FI (2件)：

G06T17/40 F ,  G06T17/40 A

Fターム (6件)：

5B050AA09 ,  5B050BA06 ,  5B050EA07 ,  5B050EA19 ,  5B050EA28 ,  5B050FA06