特許
J-GLOBAL ID：200903013909601797
赤外線吸収パターン印刷物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩澤 寿夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-185951
公開番号（公開出願番号）：特開平9-030104
出願日： 1995年07月21日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：
【要約】【課題】 実質的に視認できないコードパターン等の赤外線吸収パターン層を有し、かつプロセスインキにより自在な色の印刷層を得ることができる印刷物であって、赤外領域における吸収が良好であり、読み取り誤差を生じることがない赤外線吸収パターン印刷物の提供。【解決手段】 基材上に赤外線吸収パターン層と印刷層とをこの順に有する印刷物であって、前記印刷層は赤外線領域に実質的に吸収を有さず、前記赤外線吸収パターン層はイッテルビウム酸塩(但し、リン酸イッテルビウムを除く)粒子を含むことを特徴とする上記印刷物。基材上に赤外線吸収パターン層と印刷層とをこの順に有する印刷物であって、前記印刷層は赤外線領域に実質的に吸収を有さず、前記赤外線吸収パターン層は結晶性が高く、粒子径が0.5μm以下であるYbPO4 粒子を含むことを特徴とする上記印刷物。
請求項（抜粋）：
印刷層と赤外線吸収パターン層とを有する印刷物であって、前記印刷層は赤外線領域に実質的に吸収を有さず、前記赤外線吸収パターン層はイッテルビウム酸塩(但し、リン酸イッテルビウムを除く)粒子を含むことを特徴とする上記印刷物。
IPC (6件)：
B41M 3/06
, B41M 3/14
, B42D 15/00 341
, B42D 15/10 501
, G06K 1/12
, G06K 19/06
B41M 3/06 Z
, B41M 3/14
, B42D 15/00 341 C
, B42D 15/10 501 A
, G06K 1/12 A
, G06K 19/00 A
