特許
J-GLOBAL ID：200903013913893328
基板処理液収容装置およびそれを備えた基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下出 隆史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-287340
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122531
出願日： 1993年10月22日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 処理液と大気との遮断を完全なものとして、処理液と大気との接触、および処理液の蒸気の大気中への漏れを防止する。【構成】 基板処理を行なう処理槽31の外周にオーバフロー槽33を設け、処理槽31の上方に、処理槽31の上面を覆う蓋体35を設ける。蓋体35は、下方に開口する凹状の容器で、処理槽31の開口部を覆いつつ、その開口端35aがオーバフロー槽33に貯えられた薬液内に潜入する位置に配置される。こうして、蓋体35とオーバフロー槽33との液面により蓋体35の内側と外側とが遮断される。なお、蓋体35の上面35bには、排気ノズル37と窒素ガス供給ノズル39とを設けて、これらにより蓋体35の内部に窒素ガスを充填させている。こうして薬液と空気との接触をより確実に防止する。
請求項（抜粋）：
基板処理用の処理液を収容する処理槽と、該処理槽の側面の周囲に設けられて、液体を収容する補助槽と、下方に開口する凹状の容器からなり、前記処理槽の上面を覆いつつ、開口端が前記補助槽の液体内に潜入する蓋体とを備えた基板処理液収容装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 341
