特許
J-GLOBAL ID：200903013925995169
カラーフィルターの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上田 章三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-257089
公開番号（公開出願番号）：特開平6-109909
出願日： 1992年09月28日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：
【要約】【目的】 ガラス基板上の画素間部位に遮光層を高精度で形成できると共に形成された遮光層の反射率が低いカラーフィルターの製造法を提供すること。【構成】 ガラス基板1上の画素間部位に樹脂ブラック層2をパターン状に形成しこの樹脂ブラック層2に対し紫外線を照射した後、水素化ホウ素ナトリウム水溶液(還元性溶液)で処理して樹脂ブラック層2上にのみ水素化ホウ素ナトリウム3を付与し、かつ塩化パラジウムを主成分とする溶液で処理して上記樹脂ブラック層2上にメッキ触媒となる金属パラジウムを析出させる。次いで無電解ニッケルメッキ液内に浸漬して樹脂ブラック層2上に金属ニッケル薄膜5を析出させ樹脂ブラック層2と金属ニッケル薄膜5から成る遮光層6を形成する。そして紫外線照射により樹脂ブラック層2の親水性が向上し、かつ従来の還元性溶液に較べてガラス基板1に付着され難い水素化ホウ素ナトリウム水溶液を適用することにより樹脂ブラック層2上にのみこの還元性溶液を付与できる。
請求項（抜粋）：
ガラス基板と、この基板上の画素部位に設けられ画素毎にその透過光を着色する透明着色層と、上記基板上の画素間部位に設けられこの部位からの光透過を防止する遮光層とを備えるカラーフィルターの製造方法において、上記ガラス基板の画素間部位にアクリル系の樹脂ブラック層をパターン状に形成する樹脂層形成工程と、この樹脂ブラック層が形成されたガラス基板に対し樹脂ブラック層側から一様に紫外線を照射する紫外線照射工程と、水素化ホウ素ナトリウムを主成分とする還元性溶液又は次亜リン酸ナトリウムと水酸化ナトリウムを主成分とする還元性溶液で処理して上記樹脂ブラック層にのみ選択的に還元性溶液を付与するセンシタイジング工程と、塩化パラジウムを主成分とする溶液で処理し上記還元性溶液が付与された樹脂ブラック層上にメッキ触媒となる金属パラジウムを析出させるアクチベーティング工程と、無電解メッキにより上記樹脂ブラック層上に金属薄膜を形成する無電解メッキ工程、により上記ガラス基板上の画素間部位に樹脂ブラック層と金属薄膜とで構成される遮光層を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
IPC (2件)：
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