特許

J-GLOBAL ID：200903013926184873

半導体製造システム

発明者： 松永 健太郎
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-065488
公開番号（公開出願番号）：特開2005-259767
出願日： 2004年03月09日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：

【課題】 露光後のウェハ引き置き時間を一定にして、ウェハ間のレジストパターン寸法の均一性を向上させる。【解決手段】 露光装置70の露光終了時間データ生成手段71により、記憶装置73から読み出した露光条件データに基づいて、露光終了時間データを生成する。生成した露光終了時間データを露光終了時間データ送信手段72により塗布現像装置20に送信する。露光終了時間データ受信手段21により受信された露光終了時間データに基づいて、搬送サイクル一時停止手段22によりウェハ搬送サイクルを一時停止すると共に、露光装置70からのウェハ搬出に合わせて搬送装置を待機させる。露光後のウェハを加熱冷却ユニットに搬送した後、一時停止されていたウェハ搬送サイクルを搬送サイクル再開手段23により再開させる。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

加熱ユニットを有する塗布現像装置と露光装置とが通信回線を介して接続されている半導体製造システムであって、 前記露光装置は、 露光条件データを記憶する記憶装置と、 該記憶装置から露光条件データを読み出し、該読み出した露光条件データに基づいて露光終了時間を推定して露光終了時間データを生成する露光終了時間データ生成手段と、 該露光終了時間データ生成手段により生成された露光終了時間データを前記塗布現像装置に対し前記通信回線を介して送信する露光終了時間データ送信手段とを備え、 前記塗布現像装置は、 前記露光装置の露光終了時間データ送信手段により送信された露光終了時間データを前記通信回線を介して受信する露光終了時間データ受信手段と、 該露光終了時間データ受信手段により受信された露光終了時間データに基づき、前記塗布現像装置内のウェハ搬送サイクルを一時停止すると共に、前記露光装置からのウェハ搬出に合わせて搬送機構を待機させる搬送サイクル一時停止手段と、 前記露光装置から搬出されたウェハを前記加熱ユニットに搬送した後、前記搬送サイクル一時停止手段により一時停止されたウェハ搬送サイクルを再開する搬送サイクル再開手段とを備えたことを特徴とする半導体製造システム。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/68

FI (5件)：

H01L21/30 502G ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 502J ,  H01L21/30 567

Fターム (12件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031MA27 ,  5F031PA03 ,  5F046BA04 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046DA29 ,  5F046KA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 現像装置及び現像方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-269320   出願人：東京エレクトロン株式会社