プラズマ処理容器内部材

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：小川順三 , 中村盛夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-140700
公開番号（公開出願番号）：特開2004-003022
出願日： 2003年05月19日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】耐プラズマエロージョン性に優れるプラズマ処理容器内部材と、その有利な製造方法とを提案する。【解決手段】金属基材の表面が、Y2O3溶射皮膜の単相か、必要に応じて、アンダーコートとして形成された金属皮膜と、そのアンダーコート上に中間層として形成された Al2O3もしくはAl2O3+Y2O3の皮膜とのいずれかと、そしてその中間層の上にトップコートとして形成されたY2O3溶射皮膜とからなる多層状複合層によって被覆されている部材。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

金属基材の表面がY2O3溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。

IPC (6件)：

C23C4/10 , B01J19/02 , B01J19/08 , C23C28/00 , H01L21/3065 , H01L21/31

FI (6件)：

C23C4/10 , B01J19/02 , B01J19/08 H , C23C28/00 B , H01L21/31 C , H01L21/302 101G

Fターム (46件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA53 , 4G075BC01 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075CA47 , 4G075CA57 , 4G075FB02 , 4K031AA04 , 4K031AB02 , 4K031AB03 , 4K031AB04 , 4K031BA03 , 4K031CB21 , 4K031CB42 , 4K031CB43 , 4K044AA06 , 4K044AB10 , 4K044BA06 , 4K044BA10 , 4K044BA12 , 4K044BA13 , 4K044BB03 , 4K044BB04 , 4K044BC02 , 4K044CA11 , 5F004AA13 , 5F004AA16 , 5F004BB29 , 5F004BB30 , 5F004DA11 , 5F004DA16 , 5F004DA17 , 5F004DA23 , 5F004DA26 , 5F004DB00 , 5F004DB13 , 5F045AA08 , 5F045AC02 , 5F045AC03 , 5F045BB15 , 5F045EB03 , 5F045EC05 , 5F045EH08 , 5F045EM09

引用特許：

審査官引用 (8件)

耐蝕性部材、ウエハー設置部材および耐蝕性部材の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-325171 出願人：日本碍子株式会社
耐食性部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-201566 出願人：京セラ株式会社
半導体製造用耐食性部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-155798 出願人：京セラ株式会社

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