特許

J-GLOBAL ID：200903013936670636

真空蒸着方法及び真空蒸着装置

発明者： 玉垣 浩
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 安田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-182496
公開番号（公開出願番号）：特開平6-025835
出願日： 1992年07月09日
公開日（公表日）： 1994年02月01日
要約：

【要約】【目的】 品質と経済性を兼ね備えた皮膜を形成すること。【構成】 単数又は複数の蒸着膜形成物質を基板上に蒸着させる真空蒸着方法において、真空アーク蒸発源を陰極、坩堝を陽極として真空アーク放電を発生させるとともに、陰極で発生した電子ビームアーク放電により発生させた蒸気と、坩堝から発生した蒸気を同時に基板に供給しながら、皮膜の形成を行う。

請求項（抜粋）：

単数又は複数の蒸着膜形成物質を基板上に蒸着させる真空蒸着方法において、真空アーク蒸発源を陰極、坩堝を陽極として真空アーク放電を発生させるとともに、陰極で発生した電子ビームを陽極の坩堝内の蒸発材料に照射して加熱・蒸発させ、真空アーク蒸発源で真空アーク放電により発生させた蒸気と、坩堝から発生した蒸気を同時に基板に供給しながら、皮膜の形成を行うことを特徴とする真空蒸着方法。