特許
J-GLOBAL ID:200903013937844336

ディスクリート用ウェハの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 衞藤 彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-141027
公開番号(公開出願番号):特開平8-306652
出願日: 1995年04月27日
公開日(公表日): 1996年11月22日
要約:
【要約】【目的】 ディスクリート用のラップドウェハまたはエッチドウェハの金属汚染を低下させることができるディスクリート用ウェハの製造方法を提供する。【構成】 インゴットをスライスしてウェハを得る。ウェハの周縁部の面取りする。ウェハの切断面をラッピングする。ウェハをアルカリ洗浄する。ウェハをHF洗浄する。
請求項(抜粋):
ラップドウェハをアルカリ洗浄して得られるディスクリート用ウェハの製造方法において、アルカリ洗浄されたウェハをHF洗浄することを特徴とするディスクリート用ウェハの製造方法。
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • ウェーハエッチングの前処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-022533   出願人:三菱マテリアルシリコン株式会社, 三菱マテリアル株式会社
  • 特開昭63-062329
  • 特開昭63-062329

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