特許
J-GLOBAL ID：200903013949024776
真空容器の汚染防止構造
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-311328
公開番号（公開出願番号）：特開平7-136490
出願日： 1993年11月17日
公開日（公表日）： 1995年05月30日
要約：
【要約】【目的】 真空容器の容器内での処理対象物の汚染を効果的に防止して、製品の品質や性能、歩留まり等を向上させる。【構成】 処理対象物8を収容する清浄な真空雰囲気の容器6において、容器6内のベロー4やオーリング2のシール部位といった汚染源部位を遮蔽板10、11で覆い、遮蔽板10、11で汚染源部位2、4を容器6内の空間から隔離し、これら汚染源部位2、4から放出される汚染物質を遮蔽板10、11で捕獲することによって、汚染物質が処置対象物8に付着するのを防止する。
請求項（抜粋）：
処理対象物を収容する清浄な真空雰囲気の容器に設ける汚染防止構造であって、前記容器内の汚染源部位を遮蔽板で覆い、当該遮蔽板で汚染源部位を容器内の空間から隔離したことを特徴とする真空容器の汚染防止構造。
IPC (3件)：
B01J 3/00
, C23C 14/00
, H01L 21/68
