特許
J-GLOBAL ID：200903013950022914
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-322130
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148229
出願日： 1995年11月16日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：
【要約】【課題】 マスクパターンの製造誤差に起因する重ね合わせ精度の低下を防止する。【解決手段】 読取手段30によってレチクルR上にバーコードで記録された識別情報が読み取られる。主制御装置20では、読み取られた識別情報に該当するレチクルR上のパターンの位置ずれに関する情報を記憶手段34から取り出し、この取り出した情報を用いてレチクルRとウエハWの相対位置ずれ量を演算し、演算された相対位置ずれ量が補正されるように駆動系13を介してレチクルステージRSを微小駆動してレチクルRとウエハWの位置合わせを行なう。このため、レチクルR上のパターンの製造誤差等による重ね合わせ精度の低下が発生しない。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に転写露光する露光装置であって、前記マスク上の一部領域に設けられ、当該マスクの識別情報が記録された情報記録部と;前記識別情報を読み取る読取手段と;予め計測された複数のマスク上のパターンの位置ずれに関する情報が記憶された記憶手段と;前記マスクと感光基板との相対位置合わせを行なう位置合わせ機構と;前記読取手段により読み取られた識別情報に対応するマスクの情報を前記記憶手段から取り出し、この取り出した情報を用いてマスクと感光基板の相対位置ずれ量を演算する演算処理手段と;前記演算処理手段で演算された相対位置ずれ量が補正されるように前記位置合わせ機構を制御する制御手段とを有する露光装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 520 A
, H01L 21/30 525 Z
