特許

J-GLOBAL ID：200903013953502470

薄膜製造装置

発明者： 中村 茂 ,  石川 智 ,  北條 武 ,  益嶋 健守
出願人/特許権者： 株式会社トキメック
代理人 (1件)： 三品 岩男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-310291
公開番号（公開出願番号）：特開平6-158294
出願日： 1992年11月19日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：

【要約】【構成】内部を真空排気可能な容器1と、この容器1内に配置されたターゲットホルダ12と、このターゲットホルダ12に支持されるターゲット6a,6bに向かってイオンビームを照射可能なイオン源8と、この容器内に上記ターゲットホルダ12と対向して配置可能な基板ホルダ4を備えて構成される。上記ターゲットホルダ12は、ターゲット6a,6bが存在する領域以外の部分の一部がターゲットと同一の物質でカバーされている。【効果】後方散乱が少なく、かつ、光吸収の少ない高性能光学薄膜を製造することができる。

請求項（抜粋）：

内部を真空排気可能な容器と、この容器内に配置されたターゲットホルダと、このターゲットホルダに支持されるターゲットに向かってイオンビームを照射可能なイオン源と、この容器内に上記ターゲットホルダと対向して配置可能な基板ホルダを備えて構成される薄膜製造装置において、上記ターゲットホルダは、ターゲットが存在する領域以外の部分の一部がターゲットと同一の物質でカバーされていることを特徴とする薄膜製造装置。