特許
J-GLOBAL ID：200903013958232802
X線露光用マスク及びX線露光用マスクブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-235682
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101495
出願日： 1994年09月29日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】第2反射防止膜4がバックエッチングによってX線透過支持膜3裏面よりエッチング剥離することによるX線透過支持膜3の弱化と加工装置内や真空装置内での破壊の危険性と、X線透過支持膜3上のX線吸収性パターン膜1の位置変位の発生とを回避してX線露光用マスクとX線露光用マスクブランクの位置精度を向上させることにある。【構成】枠体5に支持された軽元素の物質からなる第1反射防止膜2と、軽元素の物質からなるX線透過支持膜3と、熱アルカリ溶液に耐性のある酸化錫膜(SnO2 )からなる第2反射防止膜4とを備える。
請求項（抜粋）：
窓部7が孔設されたシリコン製の枠体5と、枠体5に支持されたX線透過支持膜3と、X線透過支持膜3上に設けられた重金属からなるX線吸収性パターン1とを有し、X線吸収性パターン1とX線透過支持膜3との間に第1反射防止膜2と、X線透過支持膜3と枠体5との間に第2反射防止膜4とをそれぞれ具備するX線露光用マスクにおいて、軽元素の物質からなる第1反射防止膜2と、軽元素の物質からなるX線透過支持膜3と、熱アルカリ溶液に耐性のある酸化錫膜からなる第2反射防止膜4とを備えることを特徴とするX線露光用マスク。
IPC (2件)：
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